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コーター・デベロッパー - 兼松PWS株式会社|半導体装置、関連部品、アプリケーションを扱う技術専門商社

コーター・デベロッパー

ズース マイクロテックのスピンコーターとスプレーコーターは高品質の性能、使い勝手の良さ、柔軟性により質の高いコーティング技術を提供致します。コンパクトでユーザーフレンドリーなデザインはハイエンドな大量生産から研究開発向けまでをサポートするラインナップを揃えており、ウエハも300㎜まで対応致します。

ACS300 Gen3

ACS300Gen3

ACS300Gen3は感光レジスト、ポリミド、PBO塗布等のマルチプロセス技術をひとつのシステムで提供することで、高い効率性を実現します。また最大5レジスト、4現像薬液をひとつのモジュールで使用可能にすることで最適なプロセスを柔軟に対処します。更にユニバーサルなホットプレートのデザインにより、様々なレジストやPIで求められる特殊なホットプレートの必要性をなくしました。ACS300Gen3は200mmと300mmウエハ処理を段取り替えなしで同時に行うことが出来ます。

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ACS200 Gen3

ACS200 Gen3

ACS200 Gen3は最大4つのウエットプロセスモジュールと最大19プレートが実装出来る、大量生産に必要な機能を備えたフルオート機です。プロセスモジュールとテクノロジーによる他で真似ができない柔軟な構成対応により、アドバンスパッケージやMEMS、LED市場の要求に対応するだけではなく、R&Dと大量生産における性能ギャップも埋めるものです。

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RCD8

RCD8

RCD8は、基本的なマニュアルスピンコーターからズース マイクロテックの特許であるGYRSET®を使用したエンハンスドコーターまで、カスタマイズすることができます。小片ウエハも最大200mmの標準ウエハ同様に扱えるため、日々のR&D作業から小ロットの生産現場まで対応が可能です。

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AS8/AS12

AS8/AS12

AS8/AS12は研究開発用途にデザインされたセミオート・スプレーコーターで、200~300㎜Φ、及び6"までの□基板に対応します。AS8/AS12は洗練されたレジスト供給システムで比類ないプロセス安定性と再現性をご提供致します。

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LabSpin

LabSpin

LabSpinは研究開発向けに特化してデザインされた次世代のマニュアル・スピンコーター及び現像装置です。先端のコーティングアップデザインは均一で再現性の高いコーティング結果をご提供致します。

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HP8

HP8

HP8は研究開発、及び小ロット生産向けに開発されたマニュアルホットプレートです。一定の安定したプロセス結果を得る為に、均一な温度分布、及び高い再現精度の昇温を実現致します。

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